CuW及CuWCr触头材料的电解抛光

• 作者: 彭清艳 梁淑华 范志康 谢文江 赵永芹 赵玮兵
• 来源期刊: 电工材料
• 关键词: CuW CuWCr触头材料 电解抛光
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 测试·装备·应用
• 页码范围: 24-26
• 页数: 3页
• 分类号: TM206
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-8887.2006.02.007

摘要

对 CuW、CuWCr触头材料的电解抛光参数进行了研究.以电解抛光原理为依据,以经验数据为参考,通过对以往的电解抛光装置的改进,确定了对 CuW、CuWCr触头材料电解抛光的最佳参数.结果表明,在实验条件下,CuW、CuWCr触头材料的抛光时间分别为 15～25 s和 20～35 s,电压均为 2.5～4.0 V时可以获得优良的金相观察图.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范志康	西安理工大学陕西省电工材料及熔渗技术重点实验室	93	896	16.0	24.0
2	梁淑华	西安理工大学陕西省电工材料及熔渗技术重点实验室	106	692	15.0	21.0
3	彭清艳	西安理工大学陕西省电工材料及熔渗技术重点实验室	4	7	1.0	2.0
4	赵玮兵	西安理工大学陕西省电工材料及熔渗技术重点实验室	2	15	2.0	2.0
5	赵永芹	西安理工大学陕西省电工材料及熔渗技术重点实验室	1	5	1.0	1.0
6	谢文江	西安理工大学陕西省电工材料及熔渗技术重点实验室	2	5	1.0	2.0