水蒸气分压强对ITO薄膜均匀性和光电性能的影响

• 作者: 李军建 杨健君 邓建芳
• 来源期刊: 光电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化铟锡 磁控溅射 均匀性 光电特性
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 185-187,191
• 页数: 4页
• 分类号: TN3
• 字数: 2350字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-488X.2006.03.009

摘要

直流磁控溅射法低温制备ITO透明导电薄膜的过程中,在衬底温度为60℃其它工艺参数不变的情况下,通过改变通入的水蒸气分压0～6.67×10-3 Pa制备了不同结构的薄膜,研究了水蒸气分压对ITO薄膜电阻率和膜厚的均匀性,光电特性,以及晶体结构的影响.水蒸气的引入可以改善ITO薄膜的电阻率均匀性和膜厚均匀性,增加了ITO薄膜的导电性,对ITO膜可见光透过率也有所提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李军建	电子科技大学光电信息学院	20	119	6.0	10.0
2	杨健君	电子科技大学光电信息学院	42	222	8.0	13.0
3	邓建芳	电子科技大学光电信息学院	2	20	2.0	2.0