光亮剂对三价铬电沉积行为的影响

• 作者: 吴慧敏 艾佑宏
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 三价铬电镀 光亮剂 电沉积
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 26-28,63
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 3051字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2006.07.008

摘要

同时采用小槽和Hull Cell试验,并结合稳态极化法、电势阶跃法以及SEM等测试手段,研究了光亮剂对全硫酸盐体系中三价铬电沉积行为的影响.结果表明:光亮剂的光亮效果是一个综合效应,而不是一种光亮剂的作用结果;在E＜-0.10 V的区间内,光亮剂能明显地增大阴极极化;光亮剂的加入,使镀液在4.00～22.50 A/dm2区域内能得到光亮的镀层;并且光亮剂的加入不会改变三价铬镀铬的电沉积行为,与未加光亮剂时一样仍遵循瞬时成核机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	艾佑宏	湖北大学化学与材料科学学院	12	96	5.0	9.0
2	吴慧敏	湖北大学化学与材料科学学院	19	129	7.0	11.0