LiB3O5晶体946nm,473nm倍频增透膜的研制

• 作者: 于爱芳 刘中星 朱镛 范飞镝 陈创天
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: LiB3O5晶体 倍频增透膜 离子辅助沉积 附着力 激光损伤阈值 蓝色激光器
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 页码范围: 917-921
• 页数: 5页
• 分类号: O78
• 字数: 2844字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.05.003

摘要

采用离子辅助沉积技术在LiB3O5晶体上制备了946nm,473nm倍频增透膜,并测量了薄膜的性质.测试结果表明, 该增透膜具有较低的剩余反射、高的环境稳定性和良好的附着力.进一步测量了薄膜在波长1064nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步的探讨.此工艺下镀制的LiB3O5晶体用于瓦级全固态蓝光激光器,获得了3.8W波长为473nm的连续蓝光输出.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈创天	中国科学院理化技术研究所人工晶体研究与发展中心	42	447	11.0	20.0
2	朱镛	中国科学院理化技术研究所人工晶体研究与发展中心	8	172	6.0	8.0
3	于爱芳	中国科学院理化技术研究所人工晶体研究与发展中心	1	6	1.0	1.0
7	范飞镝	中国科学院理化技术研究所人工晶体研究与发展中心	2	8	2.0	2.0
8	刘中星	中国科学院理化技术研究所人工晶体研究与发展中心	1	6	1.0	1.0