镀钴泡沫镍基板界面机理研究

• 作者: 姜兆华 孙德智 戴长松 王殿龙
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 镍电极 界面 钴元素 梯度分布
• 年，卷（期）: 2006,（z1）
• 页码范围: 268-270
• 页数: 3页
• 分类号: TM912.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2006.z1.071

摘要

研究了泡沫镍镀钴镍电极的初期化成行为,发现在电池端电压0.2V附近出现一个充电电压平台,1.0V附近出现第二个充电电压平台,而纯泡沫镍做基板的镍电极无此现象.循环伏安和XRD测试验证了两个电压平台对应的反应是Co氧化为Co(OH)2和Co(OH)2氧化为CoOOH反应.EPMA线扫描显示,镍电极化成后基板表面钴元素呈梯度分布.结果表明,泡沫镍表面的金属钴通过电化学溶解沉淀机理,在基板附近生成梯度分布的CoOOH.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜兆华	哈尔滨工业大学应用化学系	152	1472	21.0	30.0
2	戴长松	哈尔滨工业大学应用化学系	57	529	13.0	20.0