掺氮碳纳米管阵列的制备及其场发射特性

• 作者: 于利刚 吴锦雷 张琦锋 柴扬 王鸣生
• 来源期刊: 北京大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 碳纳米管 掺杂 场发射
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 89-92
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 3356字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0479-8023.2006.01.016

摘要

使用结构简单的单温炉设备,以二茂铁为碳源与催化剂,三聚氰胺为氮源在硅基底制备出了碳纳米管阵列.所得的碳纳米管为多壁结构,单根碳纳米管的平均直径为50 nm,长度为15 μm,有着很好的定向性.透射电子显微镜(TEM)和X射线光电子谱(XPS)分析表明所得的碳纳米管是氮掺杂的.利用场发射显微镜研究了掺氮碳纳米管阵列的平面场发射特性,相应的开启场强为1.60 V/μm,场发射图像表明了其有较高的场发射点密度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张琦锋	北京大学信息科学技术学院电子学系	28	186	9.0	12.0
2	吴锦雷	北京大学信息科学技术学院电子学系	48	341	12.0	16.0
3	王鸣生	北京大学信息科学技术学院电子学系	3	25	2.0	3.0
4	于利刚	北京大学信息科学技术学院电子学系	4	38	3.0	4.0
5	柴扬	北京大学信息科学技术学院电子学系	2	26	2.0	2.0