聚二甲基硅氧烷表面亲水性的研究

• 作者: 吴一辉 宣明 张平 李永刚
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: 氧等离子体 聚二甲基硅氧烷 亲水性 接触角 X-射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 508-510
• 页数: 3页
• 分类号: O6
• 字数: 1895字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3820.2006.04.016

摘要

为了使聚二甲基硅氧烷(PDMS)具有较稳定的亲水性表面,利用氧等离子体技术对PDMS表面进行处理.研究了氧等离子体处理PDMS表面的时间、功率、氧气流量等参数对表面亲水性的影响,通过接触角测量和X-射线光电子能谱(XPS)对处理效果进行了评价.实验表明:PDMS经氧等离子体处理后放置700 h的表面接触角为72°,达到了持久改性的目的;XPS分析表明,表面亲水性的改善主要是由于表面极性成分的增加,最后讨论了氧等离子体处理PDMS表面的改性机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张平	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	180	2022	23.0	35.0
2	宣明	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	42	470	13.0	20.0
3	吴一辉	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	126	1121	18.0	27.0
4	李永刚	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	24	450	11.0	21.0