射频磁控溅射制备(Pb,La)TiO3薄膜的结晶性能与铁电畴初步研究

• 作者: 刘洪 吴家刚 朱基亮 朱建国 肖定全 蒲朝晖
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: PLT 铁电薄膜 电畴 PFM
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 102-105
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2252字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.02.006

摘要

采用射频磁控溅射技术在Pt/Ti/SiO2/Si衬底制备了(Pb,La)TiO3(简记为PLT)铁电薄膜.利用XRD对PLT薄膜的结晶性能进行了研究.实验结果表明,在一定的制备工艺条件下,可以制备出完全钙钛相的PLT铁电薄膜.PLT铁电薄膜的结晶性能与溅射的工作气压、氧氩比、退火温度等关系密切;PFM表明PLT薄膜的电畴具有180°结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱基亮	四川大学材料科学系	22	85	4.0	8.0
2	肖定全	四川大学材料科学系	178	2267	24.0	42.0
3	朱建国	四川大学材料科学系	124	1424	17.0	35.0
4	刘洪	四川大学材料科学系	57	253	10.0	13.0
5	吴家刚	四川大学材料科学系	20	42	4.0	5.0
6	蒲朝晖	四川大学材料科学系	1	1	1.0	1.0