采用DC Arc Plasma Jet CVD方法沉积微/纳米复合自支撑金刚石膜

• 作者: J. Askari 佟玉梅 兰昊 吕反修 宋建华 戴风伟 李彬 李成明 陈广超 黑立富
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 直流电弧等离子体喷射化学气相沉积 微/纳米复合自支撑金刚石膜 二次形核 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 页码范围: 1200-1202,1208
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 1661字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.06.009

摘要

在30kW级直流电弧等离子体喷射化学气相沉积(DC Arc Plasma Jet CVD)设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过调节甲烷浓度以及控制其他沉积参数,在Mo衬底上沉积出微/纳米复合自支撑金刚石膜.实验表明,当微米金刚石膜层沉积结束后,在随后的沉积中,随着甲烷浓度的增加,金刚石膜表面的晶粒大小是逐渐减小的.当甲烷浓度达到20%以上时,金刚石膜生长面晶粒呈现菜花状的小晶团,膜体侧面已经没有了粗大的柱状晶,而是呈现出光滑的断口,对该层进行拉曼谱分析显示,位于1145cm-1附近有一定强度的散射峰出现.这说明所沉积的晶粒全部变为纳米级尺寸.