磁控溅射法制备AlN薄膜的研究进展

• 作者: 何洪 宋秀峰 沈源 韩艳春
• 来源期刊: 山东陶瓷
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化铝薄膜 磁控溅射 性能
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 20-23
• 页数: 4页
• 分类号: TQ17
• 字数: 2945字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-0639.2006.06.005

摘要

综述了各种沉积条件对磁控溅射技术生长氮化铝薄膜的微观结构,电学以及光学性能的影响.采用磁控溅射技术,可以选用在适当的条件下制备具有特定功能与结构优良的氮化铝薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋秀峰	南京航空航天大学材料科学与技术学院	16	266	10.0	16.0
2	何洪	南京航空航天大学材料科学与技术学院	15	278	10.0	15.0
3	沈源	南京航空航天大学材料科学与技术学院	10	167	8.0	10.0
4	韩艳春	南京航空航天大学材料科学与技术学院	8	152	7.0	8.0