光学相干显微术测量散射介质内层形貌的研究

• 作者: 孙艳 朱永凯 李纪念 王昭 赵宏
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 光学相干显微术 散射介质 内层形貌
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 光电技术应用
• 页码范围: 92-94
• 页数: 3页
• 分类号: TN744.3
• 字数: 985字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2006.01.026

摘要

提出了采用光学相干显微术测量散射介质内层形貌的方法,该方法基于低相干术和共焦显微术,其纵向测试精度是由共焦门与相干门共同决定的,能有效地排除非焦面处的杂散光的影响.通过对样品内层的三维扫描,测量样品的不同点的厚度,最终透过表面层得到了样品的内层形貌,实际实验中的轴向分辨率约为5 μm,横向分辨率约为1.2 μm.该方法对样品无破坏作用,能有效地测量散射样品内层形貌,且具有测试精度高、工作可靠的特点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱永凯	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	5	31	3.0	5.0
2	赵宏	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	71	687	16.0	23.0
3	王昭	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	63	763	13.0	26.0
4	孙艳	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	36	242	8.0	13.0
8	李纪念	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	1	2	1.0	1.0