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基于90nm SOI CMOS工艺的24GHz信号发生器
SOI CMOS
功率放大器
信号发生器
90nm MOS器件亚阈值区RTS噪声幅度
RTS
幅度
深亚微米
MOS
90nm工艺下nMOS器件最大衬底电流应力特性
最大衬底电流应力
关态
带带遂穿
陷阱电荷
GIDL
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 转让90nm DRAM沟槽技术英飞凌携手中芯国际跨入90nm时代
来源期刊 电子测试 学科
关键词
年,卷(期) 2006,(2) 所属期刊栏目 厂商特写
研究方向 页码范围 86
页数 1页 分类号
字数 1097字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-8519.2006.02.019
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子测试
半月刊
1000-8519
11-3927/TN
大16开
北京市100098-002信箱
82-870
1994
chi
出版文献量(篇)
19588
总下载数(次)
63
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