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摘要:
设计出四次质子注入工艺制备垂直腔面发射激光器(VCSEL)阵列的方法,实现了对阵列中单元器件间的隔离以及对单元器件注入电流限制的分别作用.一方面通过对VCSEL外延片上分布布拉格反射镜(DBR)两次较浅的质子注人形成高电阻区域实现对阵列中单元器件间的隔离,另一方面通过再次的两次较深度的可以达到有源区上表面的质子注入形成高电阻区域实现对单元器件注入电流的限制.由瞬态热传导方程对阵列中单元器件间的热相互作用进行了理论分析.采用四次质子注入工艺实现了2×2、3×3简单的二维GaAs/AlGaAs量子阱VCSEL阵列,并对器件的激射近场、光谱特性及功率等进行了测量.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 新型垂直腔面发射半导体激光器阵列
来源期刊 发光学报 学科 物理学
关键词 垂直腔面发射激光器 激光器阵列器件 质子注入
年,卷(期) 2006,(4) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 519-525
页数 7页 分类号 O482.31
字数 3230字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-7032.2006.04.017
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 钟景昌 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 20 129 7.0 10.0
2 晏长岭 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 16 16 3.0 3.0
3 刘文莉 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 7 41 5.0 6.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
垂直腔面发射激光器
激光器阵列器件
质子注入
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
发光学报
月刊
1000-7032
22-1116/O4
大16开
长春市东南湖大路16号
12-312
1970
chi
出版文献量(篇)
4336
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