RF-PCVD低温沉积无色透明类金刚石保护膜的工艺研究

• 作者: 侯惠君 戴达煌 朱霞高 林松盛 袁镇海
• 来源期刊: 材料研究与应用
• 关键词: 射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积 类金刚石膜 比功率密度 磁感应强度
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 页码范围: 188-191
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9981.2006.03.009

摘要

采用磁约束增强射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法(RF-PCVD)低温沉积出无色透明的类金刚石保护膜(DLC),主要研究了炉压P0、射频功率Pf、自生负偏压Uz、磁感应强度B、电极间距d、反应气体、镀膜时间t等工艺参数对成膜的影响.试验结果表明,外加磁场B制约了带电粒子逃逸出电极空间,提高了反应气体的离化率及等离子体浓度和活性,并使非独立变量Pf和Uz成为独立变量,有利于工艺调节.当极间距大时,需适当提高Pf,Uz和C-H流量才可得到无色、较硬的DLC膜.在比功率密度大于0.009 W·cm-2·Pa-1、C-H浓度即体积分数0.9%～1.4%及膜厚小于90nm的条件下,可沉积出无色透明、硬度较高的DLC膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林松盛		45	332	11.0	14.0
2	袁镇海		10	59	5.0	7.0
3	侯惠君		34	234	10.0	13.0
4	朱霞高		12	89	5.0	9.0
5	戴达煌		7	38	4.0	6.0