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硅微喷阵列芯片的设计、制作与应用研究
硅微喷阵列芯片的设计、制作与应用研究
作者:
乔治
许宝建
赵建龙
金庆辉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
微喷阵列芯片
微阵列
深反应离子刻蚀
计算流体力学模拟
摘要:
介绍了一种用于制作生物微阵列的新型微喷阵列芯片.基于半导体光刻技术和干法刻蚀技术,成功制作了喷孔外侧含有间隙环的硅微喷阵列芯片,解决了溶液进样难、微阵列样品点缺失、样品点漂移以及液体回流等问题.在5 kPa气压驱动下,该芯片中的样品能在3.4 mm×3.4 mm的玻璃片上制成5×5样品微阵列,25个点的直径平均值为356 μm,直径的变异系数(25个点直径的标准偏差与算术平均值的比值)为2.8%.计算流体力学模拟结果和实验结果均表明,该微喷阵列芯片能快速、稳定地制作出样品点大小均一的微阵列,进一步推动了微阵列芯片的应用和发展.
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文献信息
篇名
硅微喷阵列芯片的设计、制作与应用研究
来源期刊
微细加工技术
学科
工学
关键词
微喷阵列芯片
微阵列
深反应离子刻蚀
计算流体力学模拟
年,卷(期)
2006,(4)
所属期刊栏目
微机械加工技术
研究方向
页码范围
48-52
页数
5页
分类号
TN305
字数
2011字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
金庆辉
中国科学院上海微系统与信息技术研究所生物芯片实验室
90
737
15.0
19.0
2
赵建龙
中国科学院上海微系统与信息技术研究所生物芯片实验室
140
1166
18.0
26.0
3
许宝建
中国科学院上海微系统与信息技术研究所生物芯片实验室
8
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7
乔治
中国科学院上海微系统与信息技术研究所生物芯片实验室
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研究主题发展历程
节点文献
微喷阵列芯片
微阵列
深反应离子刻蚀
计算流体力学模拟
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微细加工技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第48研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1003-8213
CN:
43-1140/TN
开本:
大16开
出版地:
湖南省长沙市
邮发代号:
创刊时间:
1983
语种:
chi
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
总被引数(次)
4940
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