SOI MOSFET器件X射线总剂量效应研究

• 作者: 何玉娟 师谦 张正选 李斌 林丽
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: X射线 总剂量辐射效应 绝缘体上硅 注氧隔离
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 支撑技术
• 页码范围: 357-360
• 页数: 4页
• 分类号: TN3
• 字数: 2393字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2006.05.011

摘要

研究了以10keV X射线为辐照源对注氧隔离(SIMOX)SOI MOSFET器件进行辐照的总剂量效应.采用ARACOR 10keV X射线对埋氧层加固样品与未加固的对比样品在开态和传输门态两种辐照偏置下进行辐照,分析了器件的特性曲线,并计算了SOI MOS器件前栅与寄生背栅晶体管辐照前后的阈值电压的漂移.实验结果表明,加固样品的抗辐射性能优越,且不同的辐照偏置对SOI MOSFET器件的辐照效应产生不同的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李斌	华南理工大学微电子研究所	128	542	12.0	17.0
2	何玉娟	华南理工大学微电子研究所	9	51	4.0	7.0
4	师谦		11	64	5.0	8.0
5	林丽	华南理工大学微电子研究所	5	28	2.0	5.0
7	张正选	中科院上海微系统与信息技术研究所	2	12	1.0	2.0