暗培养温度对吉塞拉6号离体新梢生根的影响

• 作者: 刘庆忠 张力思 李勃 赵红军 魏海蓉
• 来源期刊: 落叶果树
• 关键词: 暗培养温度 吉塞拉6号 离体新梢 生根 甜樱桃 矮化砧木
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: S662.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2910.2006.05.001

摘要

以在增殖培养基上生长3～4周的甜樱桃矮化砧木吉塞拉6号离体新梢为试材,研究20℃、25℃、30℃和35℃条件下暗培养后离体新梢的生根状况.结果表明,在黑暗诱导生根阶段,20℃效果最好;其次为25℃和30℃,35℃会抑制生根.30℃最有利于根的生长,25℃和35℃次之,20℃根的生长速度最慢.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘庆忠		192	2971	28.0	45.0
2	赵红军		7	48	4.0	6.0
3	魏海蓉		59	564	14.0	20.0
4	李勃		104	646	15.0	21.0
5	张力思		60	665	17.0	23.0