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摘要:
采用NH4F/H2O2作为p-CZT晶片的表面钝化剂,对未钝化与钝化表面处理的p-CZT晶片的C-V特性进行了对比研究.用XPS分析了钝化前后CZT晶体表面成分,发现钝化后CZT晶片表面形成厚度为3.1 nm的TeO2氧化层.用Agilent 4294A高精度阻抗分析仪,在1 MHz下对未钝化的和钝化的CZT晶片进行C-V测试.对测试结果的计算表明,钝化提高了Au与CZT接触的势垒高度(∮)b.未钝化的(∮)b为1.393 V,钝化后(∮)b变为1.512 V.
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文献信息
篇名 p-CZT的钝化处理和C-V特性研究
来源期刊 半导体光电 学科 工学
关键词 Au/CZT接触 钝化 C-V特性
年,卷(期) 2006,(3) 所属期刊栏目 材料、结构及工艺
研究方向 页码范围 306-308
页数 3页 分类号 TN304.26
字数 1344字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-5868.2006.03.023
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 介万奇 西北工业大学凝固技术国家重点实验室 272 1636 19.0 27.0
2 李强 西北工业大学凝固技术国家重点实验室 116 784 15.0 18.0
3 杨戈 西北工业大学凝固技术国家重点实验室 5 16 2.0 3.0
4 查刚强 西北工业大学凝固技术国家重点实验室 3 2 1.0 1.0
5 汪晓芹 西北工业大学凝固技术国家重点实验室 8 24 2.0 4.0
6 付莉 西北工业大学凝固技术国家重点实验室 1 2 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (1)
参考文献  (2)
节点文献
引证文献  (2)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1997(1)
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2001(1)
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2006(0)
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2011(1)
  • 引证文献(1)
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2016(1)
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  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
Au/CZT接触
钝化
C-V特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
22
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
论文1v1指导