掺钨类金刚石膜的制备与性能研究

• 作者: 代明江 侯惠君 朱霞高 李洪武 林凯生 林松盛
• 来源期刊: 材料研究与应用
• 关键词: 掺钨类金刚石膜 无灯丝离子源 非平衡磁控溅射
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 页码范围: 184-187
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9981.2006.03.008

摘要

采用无灯丝长条离子源结合非平衡磁控溅射的方法,在不同基体上制备了面积较大、光滑、均匀的掺钨类金刚石(W-DLC)膜层,用SEM、Raman、XPS、XRD、硬度计、划痕仪、摩擦磨损试验机等手段分析和研究了膜层的形貌、结构及部分性能.结果表明:膜/基硬度高,W-DLC/Si为Hv0.025 15=3577;膜/基结合力在45～75N之间;摩擦系数小,抗磨损性能良好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林松盛		45	332	11.0	14.0
2	代明江		52	458	13.0	18.0
3	侯惠君		34	234	10.0	13.0
4	李洪武		11	130	8.0	11.0
5	朱霞高		12	89	5.0	9.0
6	林凯生		8	92	6.0	8.0