超支化聚酯微光学光致抗蚀剂

• 作者: 冯宗财 杜春雷 王跃川 赵凌
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 超支化聚合物 光致抗蚀剂 微透镜阵列
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 762-765
• 页数: 4页
• 分类号: O641
• 字数: 1830字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2006.07.014

摘要

由链末端含有-COOH、-OH和丙烯酰氧基的超支化聚合物、多官能丙烯酸酯和光引发剂三组分组成光致抗蚀剂. 在玻璃片上成膜后硬度可达到HB～H的铅笔硬度. 抗蚀剂膜用混合UV光源曝光和四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液显影可获得E0约为5.5×10-3 J/cm2的灵敏度和γ约为8的高反差. 其曝光的灵敏度和反差γ可由显影液和光引发剂调节. 并且显示出刻蚀深度随曝光能量呈现线性变化的关系. 此特性使得该类抗蚀剂可用于微光学元件加工,并可对其表面形状进行控制. 使用该类抗蚀剂,通过移动掩膜曝光制备了200 μm×200 μm的微透镜阵列.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王跃川	四川大学高分子材料工程国家重点实验室	80	520	11.0	19.0
2	杜春雷		72	596	14.0	18.0
8	冯宗财	湛江师范学院化学系	24	83	5.0	7.0
9	赵凌	湛江师范学院化学系	1	4	1.0	1.0