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摘要:
介绍了nm级电子束曝光机激光定位精密工件台系统的结构组成、各部分技术措施及总体性能指标.该工件台采用HP5527激光干涉测量系统,测量分辨率达0.6nm,结构上成功将导向与承载分离,对承片台、机械手等进行重大创新.无论是整机性能还是关键技术单元均处于国内领先水平,是一台性能优良、高精度的电子束曝光机工件台.
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文献信息
篇名 电子束曝光机激光工件台系统研制
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 电子束曝光机 激光干涉仪 工件台 精密定位
年,卷(期) 2006,(2) 所属期刊栏目 显微、测量、微细加工技术与设备
研究方向 页码范围 102-106
页数 5页 分类号 TN05
字数 3433字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-4776.2006.02.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王淑蓉 中国科学院光电技术研究所 5 35 3.0 5.0
2 唐小萍 中国科学院光电技术研究所 32 193 8.0 12.0
3 胡松 中国科学院光电技术研究所 93 705 12.0 24.0
4 乔俊仙 中国科学院光电技术研究所 5 11 2.0 3.0
8 王肇志 中国科学院光电技术研究所 9 49 4.0 6.0
9 张正荣 中国科学院光电技术研究所 5 46 4.0 5.0
10 邢薇 中国科学院光电技术研究所 1 6 1.0 1.0
传播情况
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2015(1)
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研究主题发展历程
节点文献
电子束曝光机
激光干涉仪
工件台
精密定位
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
月刊
1671-4776
13-1314/TN
大16开
石家庄市179信箱46分箱
18-60
1964
chi
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
22
总被引数(次)
16974
论文1v1指导