NiCo/PTFE复合膜的制备及表征

• 作者: 刘作华 张丙怀 曹渊 杜军 熊中平 陶长元
• 来源期刊: 复合材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 模板 化学镀 PTFE微孔膜 磁性复合膜
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 页码范围: 88-92
• 页数: 5页
• 分类号: TB332
• 字数: 3298字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3851.2006.02.016

摘要

以N2H4为还原剂,采用化学镀和模板技术相结合的方法制备出NiCo/PTFE磁性复合膜.研究了磁性复合膜制备的适宜条件,利用DSC、SEM、XRD、VSM等手段对膜的结构和磁性能进行表征和测试.结果表明:在Co2+0.14 mol/L、Ni2+0.06 mol/L、NaOH 1.00mol/L、N2 H4 0.40 mol/L、反应温度70℃、反应时间70 min条件下制备的NiCo/PTFE磁性复合膜具有较优良的磁性能,其单位质量磁化率Xm=0.16 cm3/g,饱和磁化强度Ms=83.38 Am2/kg,剩磁Mr=29.31 Am2/kg,矫顽力Hc=111.47 Oe;PTFE膜孔中及膜表面上原位生成与基膜无化学键作用的磁性Ni、Co金属粒子.复合膜具有软磁材料的内禀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陶长元	重庆大学化学化工学院	177	1955	25.0	33.0
2	刘作华	重庆大学化学化工学院	153	1451	22.0	30.0
3	杜军	重庆大学化学化工学院	104	1177	20.0	29.0
4	曹渊	重庆大学化学化工学院	89	521	12.0	17.0
5	张丙怀	重庆大学材料科学与工程学院	53	519	13.0	18.0
6	熊中平	重庆大学化学化工学院	2	13	2.0	2.0