不同厚度四面体非晶碳薄膜的拉曼表征和内应力

• 作者: 孟松鹤 朱嘉琦 韩杰才 高巍
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 四面体非晶碳 过滤阴极真空电弧 拉曼光谱 应力
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 59-63
• 页数: 5页
• 分类号: O461.21
• 字数: 2706字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-8827.2006.01.011

摘要

为了探讨膜厚对四面体非晶碳薄膜拉曼结构表征和内应力的影响规律,进而确定应力与拉曼光谱之间的关系,采用过滤阴极真空电弧技术以相同的工艺条件在P(100)单晶抛光硅衬底上制备了从3nm～350nm不同厚度的四面体非晶碳薄膜.利用表面轮廓仪和原子力显微镜测试膜厚,表面轮廓仪确定曲率半径并计算薄膜应力,共聚焦拉曼光谱表征薄膜的结构细节.实验发现,随着膜厚的增加,四面体非晶碳薄膜的应力持续下降,当膜厚超过30nm时,应力的下降趋势变得平缓,并保持在小于5 GPa的较低水平.随着膜厚的增加,可见光拉曼光谱中衬底硅的一阶和二阶谱峰强度逐渐降低,在50nm～80nm膜厚范围,半高宽最窄,峰强最高,能够最有效地获得拉曼结构信息.随着膜厚的增加和应力的下降,非晶碳一阶谱峰的峰位表现为逐渐向低频偏移.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩杰才	哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所	298	4663	35.0	52.0
2	孟松鹤	哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所	137	1793	22.0	36.0
3	高巍	哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所	23	260	7.0	16.0
4	朱嘉琦	哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所	48	177	7.0	10.0