由SiO2低温一步法合成五六配位硅中间体的研究进展

• 作者: 孔庆刚 张晓默 陈庆民
• 来源期刊: 有机硅材料
• 学科: 化学
• 关键词: SiO2 低温合成 配位硅
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 综述·专论
• 页码范围: 149-155
• 页数: 7页
• 分类号: O627.41+4
• 字数: 3071字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-4369.2006.03.009

摘要

分别介绍了从SiO2和邻苯二酚出发合成邻苯二酚配合六配位硅和从SiO2和乙二醇出发合成五配位硅和六配位硅的方法,综述了近20年来由邻苯二酚配合六配位硅中间体合成已有或新型有机硅化合物的途径,用乙二醇配合五六配位硅制备导电材料、Si/有机杂化材料、氧氮化玻璃、分子筛和沸石、含硅聚合物的方法及应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈庆民	南京大学高分子科学与工程系	42	587	13.0	23.0
2	孔庆刚	南京大学高分子科学与工程系	2	2	1.0	1.0
3	张晓默	南京大学高分子科学与工程系	4	8	2.0	2.0