化学镀钴-磷-氧化锆复合镀层的研究

• 作者: 朱绍峰 程正勇 郑建三
• 来源期刊: 热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀 复合镀层 组织结构 后处理
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 18-20,24
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 1779字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1690.2006.01.004

摘要

采用化学镀法制备钴-磷-氧化锆复合镀层,并研究了PH值、温度、氧化锆的加入量、氧化锆的粒度和后处理等制备工艺条件对沉积速率、镀层的空隙率、硬度等性能的影响.试验结果表明,制备钴-磷-氧化锆复合镀层的最佳工艺条件为85℃～90℃、PH值9左右,采用空气搅拌或电磁搅拌.加入细的ZrO2颗粒不仅可以细化镀层的组织结构,而且还可以提高镀层硬度等性能.所获得的复合镀层经400℃热处理后,显微硬度还可进一步提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱绍峰	安徽建筑工业学院材料科学与工程系	42	150	7.0	9.0
2	程正勇	安徽建筑工业学院材料科学与工程系	4	93	4.0	4.0
3	郑建三	安徽建筑工业学院材料科学与工程系	4	19	3.0	4.0