二氧化硅基波导薄膜的制备方法综述

• 作者: 朱晓辉
• 来源期刊: 现代技术陶瓷
• 学科: 工学
• 关键词: SiO2基波导薄膜 制备方法
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 综述与述评
• 页码范围: 29-31
• 页数: 3页
• 分类号: TQ17
• 字数: 3376字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-1198.2006.02.008

摘要

总结了目前制备二氧化硅基波导薄膜的各种制备工艺,包括广泛采用的等离子增强化学气相沉积法(PECVD)、火焰水解法(FHD)、低压化学气相沉积法、溅射法、离子交换法、离子注入法和溶胶-凝胶法等制备方法,并对各种工艺的原理、特点和应用现状进行了详细的介绍

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱晓辉		13	36	4.0	5.0