蓝宝石和硅衬底上氮化硅薄膜的制备和性能研究

• 作者: 刘正堂 宋文燕 崔虎 苏勋家
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 磁控反应溅射 蓝宝石 氮化硅薄膜 性能
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 页码范围: 38-40
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2006.02.010

摘要

采用射频磁控反应溅射法,以高纯Si为靶材,高纯N2气为反应气体,在蓝宝石和硅衬底上制备了氮化硅薄膜.并对Si3N4薄膜的沉积速率、成分、结构及红外光学性能等进行了研究.实验结果表明,沉积薄膜中Si和N的比接近3∶4,形成了Si3N4化合物,呈非晶态结构.制备的Si3N4薄膜的硬度明显高于蓝宝石衬底的硬度,且与蓝宝石衬底结合牢固,可提供良好的保护性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苏勋家		52	457	11.0	18.0
2	刘正堂	西北工业大学材料学院	120	749	14.0	21.0
3	宋文燕		4	24	2.0	4.0
4	崔虎		5	31	3.0	5.0