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氧分压对PLD制备ZnO薄膜结构和发光性质的影响
氧分压对PLD制备ZnO薄膜结构和发光性质的影响
作者:
孔祥贵
张宁
李清山
王璟璟
赵波
郑学刚
陈达
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
氧化锌
脉冲激光沉积
化学配比
光致发光
半峰全宽(FWHM)
摘要:
采用脉冲激光沉积 (PLD)技术,在Si (100 )衬底上制备出高度c轴取向的ZnO薄膜.通过X射线衍射(XRD)谱,扫描电镜(SEM)和室温光致发光(PL)光谱的测量,研究了生长气氛压强的改变对薄膜结构和光致发光的影响.实验结果表明,当氧压从10 Pa升高到100 Pa时ZnO(002)衍射峰的半峰全宽(FWHM)增大.可以认为这是由于较高的氧压下,到达衬底表面的离子动能减小.这样部分离子没有足够的能量迁移到生长较快的(002)面,c轴取向变差,导致(002)衍射峰的强度降低,半峰全宽增大.随着氧压增大,紫外发光强度增强.这可能是氧压变大,薄膜的化学配比升高,说明化学配比对UV发光的影响要大于薄膜微结构的影响.改变氧气压强对薄膜的表面形貌也有较大的影响.
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生长温度
退火气氛
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电学性质
氧分压对PLD法生长Si(111)基ZnO薄膜性能的影响
ZnO薄膜
PLD
氧分压
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期刊文献
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文献信息
篇名
氧分压对PLD制备ZnO薄膜结构和发光性质的影响
来源期刊
发光学报
学科
物理学
关键词
氧化锌
脉冲激光沉积
化学配比
光致发光
半峰全宽(FWHM)
年,卷(期)
2006,(5)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
787-791
页数
5页
分类号
O472.3|O482.31
字数
2939字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-7032.2006.05.030
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李清山
曲阜师范大学物理工程学院
57
249
9.0
12.0
2
孔祥贵
中国科学院激发态物理重点实验室
33
237
9.0
13.0
3
赵波
曲阜师范大学物理工程学院
7
46
4.0
6.0
4
张宁
曲阜师范大学物理工程学院
15
64
5.0
7.0
5
陈达
曲阜师范大学物理工程学院
5
26
2.0
5.0
6
郑学刚
曲阜师范大学物理工程学院
5
26
2.0
5.0
7
王璟璟
曲阜师范大学物理工程学院
4
24
2.0
4.0
传播情况
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2014(5)
引证文献(0)
二级引证文献(5)
2015(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
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节点文献
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化学配比
光致发光
半峰全宽(FWHM)
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
发光学报
主办单位:
中国物理学会发光分会
中科院长春光机所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-7032
CN:
22-1116/O4
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路16号
邮发代号:
12-312
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
4336
总下载数(次)
7
总被引数(次)
29396
相关基金
山东省自然科学基金
英文译名:
Natural Science Foundation of Shandong Province
官方网址:
http://kyc.wfu.edu.cn/second/wnfw/shandongshengzirankexuejijin.htm
项目类型:
重点项目
学科类型:
期刊文献
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