纳米SiO2改性紫外光固化有机硅杂化材料研究

• 作者: 刘长利 吴文健 张学骜 满亚辉 钱斯文
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 光固化 有机硅 纳米二氧化硅
• 年，卷（期）: 2006,（z1）
• 页码范围: 75-78
• 页数: 4页
• 分类号: O631
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2006.z1.020

摘要

合成了光敏性有机硅树脂PSUA,采用超声分散法将纳米SiO2分散在光敏性有机硅体系中,通过紫外光固化方式制备了光固化有机硅杂化材料.研究了纳米SiO2含量对杂化体系稳定性和光固化速率的影响,测定了光固化膜硬度,用扫描电镜观察了光固化膜断面形貌.实验结果表明,表面改性的纳米SiO2在杂化体系中分散比较均匀,稳定性好,能够有效增强光固化膜的硬度,但降低了光固化速率,杂化体系中纳米SiO2的用量以3%～5%为宜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	满亚辉	国防科技大学航天与材料工程学院	19	273	9.0	16.0
2	张学骜	国防科技大学航天与材料工程学院	42	434	12.0	19.0
3	刘长利	国防科技大学航天与材料工程学院	29	388	12.0	19.0
4	吴文健	国防科技大学航天与材料工程学院	63	865	18.0	26.0
5	钱斯文	国防科技大学航天与材料工程学院	11	150	8.0	11.0