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摘要:
在研究体硅CMOS器件的闭锁窗口现象时,发现了一种新的抗闭锁方法--伪闭锁路径法.文章介绍了这种方法的基本原理,开发了一种抗闭锁电路实例.运用计算机仿真分析技术开发的抗闭锁电路,可以实现体硅CMOS器件的闭锁抑制."闪光I"瞬时辐照试验表明,该抗闭锁电路的触发阈值剂量率很低,只有1.3×104 Gy(Si)/s,能够成功抑制单片机系统的辐射感应闭锁.
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文献信息
篇名 伪闭锁路径法的应用
来源期刊 微电子学 学科 物理学
关键词 体硅 CMOS器件 闭锁 伪闭锁路径法 单片机
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 43-45,48
页数 4页 分类号 O472
字数 2498字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-3365.2006.01.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐曦 中国工程物理研究院电子工程研究所 19 91 6.0 8.0
2 胡健栋 北京邮电大学电信工程学院 36 219 9.0 13.0
3 许献国 北京邮电大学电信工程学院 15 42 4.0 5.0
7 赵刚 中国工程物理研究院电子工程研究所 10 72 3.0 8.0
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研究主题发展历程
节点文献
体硅
CMOS器件
闭锁
伪闭锁路径法
单片机
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微电子学
双月刊
1004-3365
50-1090/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号24所
1971
chi
出版文献量(篇)
3955
总下载数(次)
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总被引数(次)
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