PZT铁电薄膜的雾化湿法刻蚀技术研究

• 作者: 吴亚雷 吴建华 褚家如 许晓慧 金浙萍
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: PZT薄膜 湿法刻蚀 雾化
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 25-28
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 字数: 3387字
• 语种: 中文

摘要

PZT薄膜的微图形化是制备基于PZT薄膜微传感器和微驱动器的关键技术之一.通过引入雾化技术,改进了传统的PZT薄膜湿法刻蚀方法,进一步减小了薄膜微图形的侧蚀比,提高了图形的转化精度.选用体积比为1∶2∶4∶4的BHF/HCl/NH4Cl/H2O溶液作为刻蚀液,对溶胶-凝胶法制备的1μm厚PZT薄膜作雾化湿法刻蚀,刻蚀速率为28 nm/s,侧蚀比为0.5∶1.对所得样品表面区域进行EDS分析表明,所得PZT薄膜图形表面无残留物,该工艺可用于MEMS领域中PZT薄膜的微图形化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	褚家如	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	76	566	14.0	19.0
2	吴建华	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	8	60	4.0	7.0
3	吴亚雷	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	12	53	5.0	6.0
4	金浙萍	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	1	7	1.0	1.0
5	许晓慧	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	13	75	6.0	8.0