摩擦电化学与摩擦电化学研磨抛光研究进展

• 作者: 翟文杰
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 摩擦电化学 腐蚀磨损 摩擦控制 摩擦电化学研抛
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 评述与进展
• 页码范围: 92-96
• 页数: 5页
• 分类号: TH117.2|TG115.5
• 字数: 3789字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0595.2006.01.020

摘要

评述了水基介质和非水基介质中摩擦电化学的研究现状和进展,总结了摩擦电化学控制机理,进而在总结分析硬脆材料研抛机理的基础上提出摩擦电化学研抛原理,指出摩擦电化学研抛可望成为微电子基材高效研抛与平坦化的关键技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翟文杰	哈尔滨工业大学机电工程学院	44	298	10.0	15.0