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高光敏性酞菁氧钛及光电器件制备工艺研究
高光敏性酞菁氧钛及光电器件制备工艺研究
作者:
余银霞
卞曙光
陈建峰
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
酞菁氧钛
载流子产生材料
光电导性
晶型
分散剂
摘要:
研究了高光敏性TiOPc及其光导器件的制备工艺.研究结果表明,以邻二氯苯/水为晶型调节剂,经减压加热干燥可制得高光敏性Y-TiOPc;以Y-TiOPc为载流子产生材料,以2丁酮为分散剂,在m (TiOPc):m (PVB)=1:1时制得光电器件载流子产生层,此时充电电位V0,残余电势Vr, 表面电压衰减到一半时所需的能量 E1/2分别为720 V,20 V,072lx.s,光导器件的光电导性能最好.
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文献信息
篇名
高光敏性酞菁氧钛及光电器件制备工艺研究
来源期刊
高技术通讯
学科
工学
关键词
酞菁氧钛
载流子产生材料
光电导性
晶型
分散剂
年,卷(期)
2006,(10)
所属期刊栏目
新材料技术
研究方向
页码范围
1047-1050
页数
4页
分类号
TH16
字数
3715字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1002-0470.2006.10.013
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
陈建峰
364
5797
36.0
57.0
2
卞曙光
3
6
1.0
2.0
3
余银霞
4
14
2.0
3.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(2)
节点文献
引证文献
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同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
1993(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2004(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2006(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
酞菁氧钛
载流子产生材料
光电导性
晶型
分散剂
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
高技术通讯
主办单位:
中国科学技术信息研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1002-0470
CN:
11-2770/N
开本:
大16开
出版地:
北京市三里河路54号
邮发代号:
82-516
创刊时间:
1991
语种:
chi
出版文献量(篇)
5099
总下载数(次)
14
总被引数(次)
39217
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:
The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:
http://www.863.org.cn
项目类型:
重点项目
学科类型:
信息技术
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