镀层结构与氢脆关系研究

• 作者: 宇波 张晓云 汤智慧 蔡健平 陆峰
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 氢脆 高强度钢 电镀
• 年，卷（期）: 2006,（10）
• 所属期刊栏目: 表面工程
• 页码范围: 37-42
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2006.10.011

摘要

研究了高强度钢不同镀层的镀层结构、电镀渗氢行为及氢脆性能.分析研究了镀层结构与低氢脆性能的关系,对氢含量分布和工艺阴极电流效率也进行了分析.结果表明镀层的氢脆性能与镀层结构有密切关系,但不完全由镀层结构决定.高强度钢电镀的低氢脆机理有三种:以氯化铵镀镉为代表的高阴极电流效率模式;以低氢脆镀镉为代表的镀层高孔隙率模式;以镀镉-钛为代表的镀层成分和结构综合作用模式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汤智慧		88	790	15.0	21.0
2	张晓云		84	1003	18.0	25.0
3	蔡健平		30	353	11.0	17.0
4	陆峰		122	1441	20.0	29.0
5	宇波		22	201	10.0	13.0