脉宽压缩光栅用多层膜制备和性能测试

• 作者: 孔伟金 沈健 沈自才 范正修 邵建达
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多层电介质光栅 膜系设 性能分析
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 薄漠光学
• 页码范围: 84-88
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3293字
• 语种: 中文

摘要

给出了以413 nm作为写入波长,1053 nm作为使用波长的多层介质光栅膜的设计,计算表明膜系H3L(H2L)^9H0.5L2.03H满足光栅膜的要求.最后给出了制备得到的样品光学特性测试,结果表明在使用波长和曝光波长处满足设计要求,其抗激光损伤阈值在光正入射和51.2°入射时分别为14.14 J/cm2和9.32 J/cm2,膜系的应力表现为压应力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	203	2312	23.0	32.0
3	沈健	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	10	113	8.0	10.0
4	孔伟金	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	9	74	5.0	8.0
8	沈自才	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	15	140	8.0	11.0