光学镀膜仪的监控稳定性研究

• 作者: 任小玲 许世军
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 光学薄膜 膜厚监控稳定性 综合评价指标 方差分析 标准偏差 "中心层"效应
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 真空应用
• 页码范围: 54-57
• 页数: 4页
• 分类号: TM938.8|O484.5
• 字数: 3419字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2006.06.015

摘要

光学镀膜仪的膜厚监控稳定性影响着镀膜的合格率,并且对镀膜经验控制,膜系修正和自动化系统开发有重要的意义.对真空镀膜仪进行4种薄膜系列的膜厚监控实验,建立一套稳定性评价体系,获取镀膜仪的稳定性指标.将修正的方差分析方法、不确定度分析方法、标准偏差与相对偏差方法和线性回归方法等综合起来,用6项指标从各个方面对光学薄膜厚度监控的稳定性做出评判,甚至对膜厚控制精度和特征波长做出分析.实验结果表明:上述的综合评价体系是合理的;多层膜比单层膜的监控稳定性稍差一些,膜层材料对稳定性的影响比较大,膜厚控制精度的标准偏差≤0.45%;薄膜层数对膜厚控制精度没有明显的影响,甚至多层膜比少层膜的控制精度要高,出现了"中心层"效应;用线性回归方法可以估计实际镀膜的特征波长长移量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任小玲	西安工程大学计算机学院	29	156	6.0	11.0
2	许世军	西安工业大学数理系	43	123	6.0	9.0