热处理炉炉温均匀性的黑体调控技术

• 作者: 李治岷 魏玉文
• 来源期刊: 热处理技术与装备
• 关键词: 热射线 漫反射 到位率 炉温均匀性 黑体元件 调控
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 37-40
• 页数: 4页
• 分类号: TG155.1+1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-4971.2006.01.009

摘要

加热炉的温度场均匀性直接关系到产品最终的组织性能,是非常重要的一环,微机控制系统的发展,比较容易地使温差控制在±5℃甚至更高的精度.但是,炉子运行一段时间后,炉温控制超差的现象普遍发生,温差可以超过规定值的几倍甚至十几倍.采用黑体技术来调控炉温均匀性,可以使炉温长期稳定在规定范围内.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李治岷		6	22	2.0	4.0
2	魏玉文		6	22	2.0	4.0