U表面Al及Ti/Al双重镀层的电化学腐蚀行为

• 作者: 刘清和 王庆富 郎定木 鲜晓斌
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: U Al镀层 Ti/Al双重镀层 电化学腐蚀
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 化学
• 页码范围: 662-666
• 页数: 5页
• 分类号: TL214.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2006.06.006

摘要

采用动电位极化技术和扫描电镜(SEM)对U表面Al及Ti/Al双重镀层在含50 μg/g Cl-的KCl溶液中的电化学腐蚀行为进行研究.研究结果表明:U表面Al镀层和Ti/Al双重镀层的腐蚀为局部腐蚀,其腐蚀速度明显低于裸体U,镀层能够对U表面提供较好的保护;Al镀层相对U基体为阳极性镀层,能对U基体提供牺牲性保护;Ti镀层相对U基体为阴极性镀层,对U基体的保护是基于镀层对腐蚀介质的物理屏障作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王庆富		7	25	3.0	4.0
2	鲜晓斌		5	17	3.0	4.0
3	刘清和		2	7	2.0	2.0
4	郎定木		3	7	2.0	2.0