表面处理细化取向硅钢磁畴的方法与机理

• 作者: 乔学亮 朱业超 王良芳
• 来源期刊: 钢铁研究
• 学科: 工学
• 关键词: 取向硅钢 磁畴细化 刻痕 张应力
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 50-53
• 页数: 4页
• 分类号: TF325
• 字数: 4549字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1447.2006.06.013

摘要

磁畴细化技术是降低取向硅钢铁损重要的方法之一.本文概述了国内外表面处理使磁畴细化的方法,这些方法使磁畴细化的机理,以及细化磁畴可降低铁损的机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	乔学亮	华中科技大学材料科学与工程学院	89	1799	21.0	38.0