金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展

• 作者: 冷文华 刘东坡 张鉴清 程小芳
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 地球科学
• 关键词: 光电化学 半导体 阴极保护 腐蚀
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 188-192
• 页数: 5页
• 分类号: X78
• 字数: 4926字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-4537.2006.03.013

摘要

自上世纪70年代以来,半导体特别是TiO2光电催化反应在诸多领域应用引起了广泛研究.近年来研究表明它可用于金属的阴极保护.文中对金属的光电化学方法防腐蚀的化学原理及研究现状进行了简要介绍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张鉴清	浙江大学化学系	175	3677	35.0	52.0
5	冷文华	浙江大学化学系	31	795	14.0	28.0
6	程小芳	浙江大学化学系	4	61	4.0	4.0
7	刘东坡	浙江大学化学系	3	31	2.0	3.0