黑曲霉吸附弱酸性艳蓝RAWL的机理

• 作者: 辛宝平 郑文钗 陈桂淋
• 来源期刊: 化工环保
• 学科: 化学
• 关键词: 黑曲霉 染料 质子化 化学修饰 吸附
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 447-450
• 页数: 4页
• 分类号: O647.3
• 字数: 3526字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-1878.2006.06.002

摘要

为了研究黑曲霉吸附弱酸性艳蓝RAWL(简称染料)的机理,通过红外光谱和化学修饰的方法,考察了黑曲霉对染料吸附性能的pH响应模式,表征了黑曲霉干粉菌体表面的主要官能团组成及不同官能团对吸附染料的贡献.实验结果表明:在强酸性(pH不大于2)条件下黑曲霉对染料的吸附效果最好;黑曲霉干粉菌体表面含有氨基、羧基和磷酸根;经脂质脱除、磷酸根酯化修饰、羧基酯化修饰、氨基甲基化修饰后对染料的吸附性能不变,而乙酰化氨基在酸性体系中失去质子化能力,对染料的吸附性能下降51.6%,说明低pH条件下氨基质子化导致带正电的黑曲霉干粉菌体与带负电的染料之间的静电引力是吸附染料的重要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	辛宝平	北京理工大学化工与环境学院	33	333	9.0	17.0
2	陈桂淋	北京理工大学化工与环境学院	4	21	3.0	4.0
3	郑文钗	北京理工大学化工与环境学院	5	36	4.0	5.0