快速退火对PZT铁电薄膜结构的影响

• 作者: 普朝光 李振豪 李琳 杨培志 王忠华
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 锆钛酸铅 铁电薄膜 快速退火 X射线衍射 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 页码范围: 415-419
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2935字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.02.047

摘要

采用射频磁控溅射方法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备出(PZT)铁电薄膜,在550℃、600℃、650℃、700℃几个温度下对薄膜进行了快速退火热处理,并在退火处理后用X射线衍射、原子力显微镜和热释电系数测试系统研究了PZT铁电薄膜的薄膜结构、表面形貌及热释电性能.在650℃快速退火后,PZT铁电薄膜已经形成较好的钙钛矿相结构,并获得了较好的热释电性能,热释电系数达到1.5×10-8C·cm-2·k-1.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	普朝光		10	87	7.0	9.0
2	杨培志		21	189	8.0	13.0
3	李振豪		2	16	2.0	2.0
4	王忠华		2	16	2.0	2.0
5	李琳		1	7	1.0	1.0