卡维地洛印迹聚合物的合成及其识别性能的研究

• 作者: 何建峰 刘岚 邓芹英
• 来源期刊: 分析科学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 卡维地洛 分子印迹聚合物 Scatchard方程 离解常数
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 253-257
• 页数: 5页
• 分类号: O657|R917
• 字数: 3177字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-6144.2006.03.002

摘要

以卡维地洛药物分子为模板,甲基丙烯酸为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂,采用紫外光引发聚合的分子印迹技术,成功制备出卡维地洛分子印迹聚合物.用热重分析、扫描电镜对聚合物进行了表征,通过Scatchard方程研究了印迹聚合物对模板分子的结合特性.结果表明,在所研究的浓度范围内,印迹聚合物存在一类等价的结合位点,并计算出印迹聚合物与模板分子的平衡离解常数为0.5642 mmol/L,最大表观吸附量为97.44μmol/g,为理论值的63.53%.对不同底物的结合实验表明,该聚合物对卡维地洛具有优良的吸附选择性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何建峰	中山大学化学与化学工程学院	15	196	9.0	14.0
3	刘岚	中山大学化学与化学工程学院	54	504	14.0	19.0
4	邓芹英	中山大学化学与化学工程学院	75	797	17.0	23.0