偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应修正

• 作者: 梁强 毛智彪 金晓亮 陆梅君
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 偏离最佳 光学邻近效应 制程窗口
• 年，卷（期）: 2006,（9）
• 所属期刊栏目: 制造技术
• 页码范围: 673-675,679
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2751字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2006.09.011

摘要

提出了一种新型的与制程窗口紧密相关,被称为偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应模型,该模型包含制程参数变化的信息.该模型引导得到的修正的图形在工艺参数变化时也会表现得非常稳定,而且相对标准模型而言,缩短了建立模型的周期,节省了光罩出版的时间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金晓亮		2	0	0.0	0.0
2	毛智彪		2	0	0.0	0.0
3	梁强		2	0	0.0	0.0