真空退火法对AZO薄膜的研究

• 作者: 卢景霄 吴芳 张丽伟 李红菊 王子健 王海燕
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射法 AZO薄膜 退火 光电特性 透过率
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 13-15
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4+2
• 字数: 1902字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2006.05.004

摘要

磁控溅射法在玻璃衬底上制备了AZO(氧化锌掺铝)薄膜.对薄膜进行了真空退火.利用XRD、分光光度计以及四探针等测试装置,对AZO薄膜的晶粒度、透光率和导电性能进行了测试分析.结果表明,退火有利于薄膜结晶;退火有利于薄膜光电性能的提高.在本实验中,AZO薄膜的最高透光率可达90.617%;最低电阻率可达2.21×10-3(Ω·cm).对比在真空中退火的ITO薄膜的光电性能参数,结果已有所超越.此结果说明,AZO薄膜有潜力成为透明导电膜ITO的替代产品.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张丽伟	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	17	90	7.0	9.0
5	王子健		1	12	1.0	1.0
6	卢景霄		1	12	1.0	1.0
7	王海燕		1	12	1.0	1.0
8	吴芳		1	12	1.0	1.0
9	李红菊		1	12	1.0	1.0