三维结构的邻近效应校正

• 作者: 卢文娟 宋会英 张玉林 郝慧娟
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 图形发生器 电子束光刻 三维加工 邻近效应校正
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 5-9,33
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3802字
• 语种: 中文

摘要

针对三维曝光图形的结构特点,结合重复增量扫描方式,分别从水平和深度两个方向进行邻近效应校正.水平方向通过预先建立校正过程中需要的各种规则表,使所需参数可以通过查表获得,快速、准确地实现了邻近效应校正,深度方向的校正则是从吸收能量密度与曝光剂量的关系上考虑.利用SDS-3电子束曝光机完成了校正实验.AFM图显示,邻近效应已大大降低,可满足三维加工精度的要求.所提出的扫描方式和校正方法为电子束曝光的三维加工和邻近效应校正提供了一种新方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋会英		6	31	4.0	5.0
2	张玉林		18	76	5.0	8.0
3	卢文娟		12	47	4.0	6.0
4	郝慧娟		8	44	4.0	6.0