ICP-CVD制备高质量疏水性碳氟聚合物薄膜的研究

• 作者: 刘理天 吴建刚 岳瑞峰 康明 曾雪锋
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 碳氟聚合物薄膜 疏水性 感应耦合等离子体化学气相淀积 化学键结构
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 168-171
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2854字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.03.002

摘要

在室温下以c-C4F8为反应气体,采用电感耦合等离子体化学气相淀积(ICP-CVD)法制备出碳氟聚合物薄膜,研究了工艺条件与薄膜的光、电性能和结构与疏水性的相关性.结果表明,薄膜结构均匀致密,主要由C-CFx、CF、CF2和CF3组成;当射频功率为400 W,c-C4F8的流量为40 sccm时,制备出的薄膜和去离子水之间的接触角高达112°.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	岳瑞峰	清华大学微电子学研究所	67	379	11.0	15.0
2	刘理天	清华大学微电子学研究所	230	1519	19.0	23.0
3	吴建刚	清华大学微电子学研究所	21	236	10.0	14.0
4	曾雪锋	清华大学微电子学研究所	16	183	9.0	13.0
5	康明	清华大学微电子学研究所	10	124	7.0	10.0