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6H-SiC单晶生长温度场优化及多型控制
6H-SiC单晶生长温度场优化及多型控制
作者:
姜守振
徐现刚
李娟
李现祥
王丽
王继扬
胡小波
董捷
蒋民华
陈秀芳
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
温度场
6H-SiC单晶
径向温度梯度
多型
摘要:
本文模拟了升华法生长6H-SiC单晶的不同温度场,并进行了相应的生长实验.结果表明:改变石墨坩埚和感应线圈的相对位置,可以改变温度场形状;下移石墨坩埚;可以增大温度场径向温度梯度.在不同的径向温度梯度下,6H-SiC晶体分别以凹界面、平界面和凸界面生长.晶体生长界面的形状和速率影响晶体多型的产生,在平界面,生长速率小于300μm/h的晶体生长条件下,可获得无多型的高质量6H-SiC单晶.
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半导体材料
高纯半绝缘
4H-SiC单晶
单晶生长
内容分析
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相关学者/机构
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文献信息
篇名
6H-SiC单晶生长温度场优化及多型控制
来源期刊
人工晶体学报
学科
物理学
关键词
温度场
6H-SiC单晶
径向温度梯度
多型
年,卷(期)
2006,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
41-44
页数
4页
分类号
O782
字数
1597字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-985X.2006.01.009
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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温度场
6H-SiC单晶
径向温度梯度
多型
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
主办单位:
中材人工晶体研究院有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-985X
CN:
11-2637/O7
开本:
16开
出版地:
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
邮发代号:
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
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