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摘要:
本文模拟了升华法生长6H-SiC单晶的不同温度场,并进行了相应的生长实验.结果表明:改变石墨坩埚和感应线圈的相对位置,可以改变温度场形状;下移石墨坩埚;可以增大温度场径向温度梯度.在不同的径向温度梯度下,6H-SiC晶体分别以凹界面、平界面和凸界面生长.晶体生长界面的形状和速率影响晶体多型的产生,在平界面,生长速率小于300μm/h的晶体生长条件下,可获得无多型的高质量6H-SiC单晶.
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文献信息
篇名 6H-SiC单晶生长温度场优化及多型控制
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 温度场 6H-SiC单晶 径向温度梯度 多型
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 41-44
页数 4页 分类号 O782
字数 1597字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.01.009
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节点文献
温度场
6H-SiC单晶
径向温度梯度
多型
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
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