等离子体增强化学气相沉积制备的ZnO薄膜研究

• 作者: 但敏 刘明海 刘玉萍 李斌 胡希伟 郭爱波 陈枫
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体增强 化学气相沉积 SEM EDAX XPS 衬底
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 5-7
• 页数: 3页
• 分类号: O48.5|TG174.444
• 字数: 2507字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2006.06.002

摘要

鉴于ZnO薄膜材料的多功能性,用等离子体增强化学气相沉积方法在金属Cu和普通玻璃上生长了ZnO薄膜.扫描电子显微镜获得其表面形貌;能谱分析获得其元素种类及相对含量,在能谱图上明显地观察到了Zn峰和O峰的存在,且Cu基上Zn和O原子比接近1∶ 1;X射线光电子能谱分析得出样品中的Zn和O全部以化合态存在而不存在Zn原子和O原子.但Cu基上的ZnO薄膜易吸收空气中的氧和水蒸汽,薄膜质量期望通过生长合适过渡层得到改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡希伟	华中科技大学电气与电子工程学院	21	319	9.0	17.0
2	李斌	华中科技大学电气与电子工程学院	202	3221	31.0	49.0
3	刘明海	华中科技大学电气与电子工程学院	27	375	9.0	19.0
4	郭爱波	华中科技大学电气与电子工程学院	5	144	5.0	5.0
5	刘玉萍	华中科技大学电气与电子工程学院	11	231	7.0	11.0
6	陈枫	华中科技大学电气与电子工程学院	5	144	5.0	5.0
7	但敏	华中科技大学电气与电子工程学院	6	163	5.0	6.0