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高强度Mo-Mn金属化工艺研究
高强度Mo-Mn金属化工艺研究
作者:
荀燕红
陈丽梅
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
粉体粒度
高致密
金属化层
封接强度
摘要:
通过改变Mp-Mn法工艺条件来获得高致密、高强度的金属化层,以提高陶瓷金属封接件的封接强度.
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文献信息
篇名
高强度Mo-Mn金属化工艺研究
来源期刊
真空电子技术
学科
工学
关键词
粉体粒度
高致密
金属化层
封接强度
年,卷(期)
2006,(3)
所属期刊栏目
工艺与应用
研究方向
页码范围
61-63
页数
3页
分类号
TB75
字数
1777字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-8935.2006.03.019
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
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G指数
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荀燕红
4
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高致密
金属化层
封接强度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
主办单位:
北京真空电子技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-8935
CN:
11-2485/TN
开本:
大16开
出版地:
北京749信箱7分箱
邮发代号:
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
总被引数(次)
8712
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